رسوب شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition - PACVD)

در فرآیند PACVD، واکنشی شیمیایی در محیط پلاسما صورت می‌گیرد که به تشکیل پوشش روی قطعات منجر می‌شود. بخارات و گازهای پیش‌نیاز واکنش وارد راکتور شده، تحت‌تأثیر انرژی ایجادشده به‌وسیلهٔ پلاسما، اکتیو می‌شوند و با هم واکنش می‌دهند. به‌وسیلهٔ سیستم PACVD، امکان تشکیل پوشش‌های پایهٔ تیتانیم (TiN، TiCN، TiAlN، TiC) و نیز پوشش DLC (کربن شبه‌الماسی) وجود دارد. به‌منظور بهبود پوشش‌های ایجادشده، معمولاً قطعات پیش از فرآیند PACVD، تحت فرآیند نیتروژن‌دهی پلاسمایی قرار می‌گیرند (هردو فرآیند در یک کوره انجام می‌شود).

شرکت پلاسماپژوه پارس با یک دستگاه PACVD به ابعاد ۶۰*۴۰، توانایی ارائهٔ خدمات و نیز انجام امور تحقیقاتی در این زمینه را دارد. درحال حاضر، در زمینهٔ استفاده از سیستم PACVD، تمرکز شرکت بر توسعهٔ پوشش‌های DLC است.