شرکت پلاسماپژوه پارس توانایی ساخت سیستم پوشش‌دهی Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – PACVD – را داراست. به‌وسیله سیستم PACVD، امکان تشکیل پوشش‌های پایه تیتانیوم (TiN, TiCN, TiAlN, TiC) و نیز پوشش DLC (کربن شبه‌الماس) وجود دارد. با توجه به شباهت‌های ساختاری سیستم PACVD و سیستم نیتروژن‌دهی پلاسمایی، می‌توان با درنظرگرفتن تمهیداتی مانند تعبیه دو محفظه خلأ در سیستم، از دستگاه PACVD به‌منظور نیتروژن‌دهی پلاسمایی نیز استفاده کرد. شایان ذکر است به‌منظور بهبود پوشش‌های ایجادشده، معمولاً قطعات پیش از فرایند PACVD، تحت فرایند نیتروژن‌دهی پلاسمایی قرار می‌گیرند (هر دو فرایند در یک کوره انجام می‌شود). سایز استاندارد PACVD ساخت شرکت پلاسماپژوه پارس قطر کارگیر 40 سانتی‌متر و ارتفاع کارگیر 60 سانتی‌متر است؛ باوجوداین برحسب نیاز مشتری، امکان ساخت سیستم PACVD با ابعاد دیگر نیز وجود دارد.