Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition - PACVD

رسوب شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما

در فرآیند PACVD، واکنشی شیمیایی در محیط پلاسما صورت می‌گیرد که به تشکیل پوشش روی قطعات منجر می‌شود. بخارات و گازهای پیش‌نیاز واکنش وارد راکتور شده، تحت‌تأثیر انرژی ایجادشده به‌وسیلة پلاسما، اکتیو می‌شوند و با هم واکنش می‌دهند. به‌وسیلة سیستم PACVD، امکان تشکیل پوشش‌های پایة تیتانیم ( TiN، TiCN، TiAlN، TiC ) و نیز پوشش DLC (کربن شبه‌الماسی) وجود دارد. به‌منظور بهبود پوشش‌های ایجادشده، معمولاً قطعات پیش از فرآیند PACVD، تحت فرآیند نیتروژن‌دهی پلاسمایی قرار می‌گیرند (هردو فرآیند در یک کوره انجام می‌شود).

شرکت پلاسماپژوه پارس با یک دستگاه PACVD به ابعاد 60*40، توانایی ارائة خدمات و نیز انجام امور تحقیقاتی در این زمینه را دارد. درحال حاضر، در زمینة استفاده از سیستم PACVD، تمرکز شرکت بر توسعة پوشش‌های DLC است.